Ведущие чипмейкеры переходят на машины ASML за $400 млн: новая технология ускорит производство на 40%
Samsung Electronics и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. объявили о планах в ближайшие несколько лет внедрить новейшие литографические машины ASML — и присоединились к Intel в согласии на ключевое технологическое изменение, способное поднять производительность на новых установках на 40 процентов.
Это знаменует более широкое принятие полупроводниковой отраслью технологии high NA EUV-литографии: каждая такая машина может стоить до 400 миллионов долларов, а поставляет их только нидерландская компания ASML, сообщает Bloomberg. Технология позволит разработчикам чипов реализовывать ещё более мелкие элементы в потенциально более мощных и эффективных чипах следующего поколения, предназначенных для ИИ-дата-центров и потребительской электроники — смартфонов, планшетов и ноутбуков.
EUV-машины (литография в экстремальном ультрафиолете) от ASML позволяют чипмейкерам с помощью мощного лазерного света послойно переносить рисунки на кремниевые пластины, постепенно формируя компьютерные схемы, из которых и состоят чипы. По сравнению со старой литографией в глубоком ультрафиолете EUV использует более мощный источник света с более короткой длиной волны и позволяет создавать на пластинах ещё более мелкие элементы.
Как пишут исследователи ASML для IEEE Spectrum, это потребовало создания невероятно сложной системы лазеров, которая непрерывно превращает расплавленное олово в плазму с температурой около 200 000 °C, плюс зеркал, собирающих свет от плазмы и направляющих его в литографическую установку размером с автобус для проецирования замысловатых схем на кремниевые пластины. Новейшие машины ASML с высокой числовой апертурой (high NA) используют более крупные зеркала и улучшенную оптическую систему для более точного сбора и фокусировки света.
Южнокорейская Samsung планирует использовать high NA EUV-машины ASML для производства микросхем памяти к 2028 году. Тайваньская TSMC намерена применять технологию для выпуска самых передовых чипов для своих клиентов — включая AMD, Apple, Nvidia и Qualcomm — начиная с 2030 года. Intel уже начала внедрять high-NA EUV-машины в своё производство: американская компания использует технологию в серийном выпуске процессоров Panther Lake для мобильных устройств с июля 2026 года.
Отрасль движется вперёд, пока Китай пытается догнать
Samsung и TSMC также работают вместе с Intel и ASML над сменой отраслевого стандарта фотошаблонов — трафаретов, с которых сложные рисунки схем переносятся на кремний, — с 6-дюймовых на 12-дюймовые. Этот переход в перспективе может повысить производительность high NA EUV-машин на 40 процентов, рассказал Bloomberg технический директор ASML Марко Питерс. Южнокорейский производитель памяти SK Hynix тоже рассматривает возможность присоединения к отраслевому консорциуму, курирующему переход на более крупные 12-дюймовые фотошаблоны, сообщил Bloomberg представитель компании. Как и Samsung, SK Hynix нацелен начать производство микросхем памяти с использованием high NA EUV-технологии с 2028 года.
Улучшение производства чипов стало бизнес-императивом, пока продолжает раздуваться пузырь ИИ. Гонка технологических компаний за строительством новых ИИ-дата-центров усугубила и глобальный дефицит микросхем памяти, из-за которого подорожали смартфоны, ноутбуки и игровые приставки. Тем временем значение машин ASML для передового производства чипов стало ключевым вопросом в технологическом соперничестве США и Китая. ASML по-прежнему поставляет китайским компаниям, таким как Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), литографические машины старшего поколения на глубоком ультрафиолете, но из-за ограничений правительства Нидерландов и политического давления США ей запрещено экспортировать в Китай большинство своих машин для производства чипов.
Несмотря на неподтверждённые обвинения американских властей в том, что Китаю удалось заполучить одну из EUV-машин ASML, китайские компании ведут трудную борьбу за создание собственной версии этой технологии и цепочки поставок, необходимой для поддержки производства таких машин. Исполнительный директор немецкой Zeiss Group — эксклюзивного поставщика зеркал и оптических систем для машин ASML — недавно предсказал, что Китаю потребуется 15 лет, чтобы разработать EUV-литографию.
